その他

ウルトラミクロトーム　LeichertウルトラカットS　平成5年度導入

仕様

　

実体顕微鏡部倍率	x9.75~63
切削速度	0.01~100 mm/s
切片厚	ULTRA = 0~95 nm（5 nmごと）、SEMI = 0.01~2.5 um（0.01 umごと）

ポイント

　

良好な超薄切片の作製には熟練が必要。薄くてTEMでの観察に適した切片を切り出すのには最低でも丸一日かかることが多い。厚切り後に光学顕微鏡で目的の部位が切りだされてきたことを確認できてから超薄切を行う。

真空蒸着装置　真空デバイス　VE-2030　平成17年度導入

仕様

　

所要時間	シャドウイング法：約1時間　カーボン蒸着：約2時間

ポイント

　

ウイルスや生体高分子などのようにコントラストが低いものを透過電子顕微鏡で観察する場合に、重金属（酸化クロム）を斜め上方から蒸着することで影を付け観察しやすくすることができる（＝シャドウィング法）。プラスチック支持膜を補強する場合のカーボン蒸着も行うこともできる。

イオンスパッタ　真空デバイス　MSP-1S　平成22年3月導入

仕様

　

試料台	直径50 mm
電極~試料台距離	35 mm
ターゲット金属	白金パラジウム（Pt-Pt）
所要時間	約2分/回

ポイント

　

生物試料には導電性がほとんどないため、走査電子顕微鏡で観察する大半の試料には何らかの金属膜で蒸着をし、導電性を付与する必要がある。導電性がないとチャージアップ（帯電）し、二次電子像に著しい像障害が生じる。導電性を付与することで、チャージアップを防止するだけでなく、二次電子発生効率の増大、電子線による試料ダメージの軽減などの効果がある。

カーボンコーター　真空デバイス　VC-100　平成22年3月導入

仕様

　

試料台	直径10 mm
蒸発源~試料台距離	30~70 mm
カーボン	シャープペンの芯（不純物の少ない三菱Hi-Uni 0.5 B）を使用
所要時間	30分/回

ポイント

　

カーボンは原子番号が小さく、二次電子放出効率がかなり低いため、元素分析や反射電子像観察を必要とするSEM試料の蒸着に多く用いられている。凹凸のあるものは、試料の角度を変えて2~3回に分けて蒸着を行うこともある。

オスミウムコーター　真空デバイス　HPC-30　平成11年度導入

仕様

　

試料台	直径125 mm
処理可能試料サイズ	直径125 mm x 高さ45 mm

ポイント

　

SEM観察試料の金属蒸着に使用される。スパッタリング法と比較すると試料表面に対する粒子のまわりこみが優れており、特に高倍率像の観察に適している。四酸化オスミウムは毒性が強いが、この装置で使用するものはアンプル入りで、比較的安全に使用できる。未反応のオスミウムガスは装置外に放出されないようになっている。

親水化処理装置　真空デバイス　PIB-10　平成22年3月導入

仕様

　

試料台	直径50 mm
電極~試料台距離	35 mm（固定）
所要時間	2分/回

ポイント

　

切片を載せる直前にグリッドの親水化を行う。超薄切をする際のダイヤモンドナイフも親水化できる。

凍結乾燥機　日立ES-2030　平成7年度および22年3月導入

仕様

　

試料室内径	直径80 mm、高さ100 mm
所要時間	数時間/回（t-ブチルアルコールの量により異なる。夕方までに持ち込んでもらい、翌朝までに乾燥させることが多い）

ポイント

　

脱水した試料をt-ブチルアルコールに置換し、凍結させてから装置の中に入れ、t-ブチルアルコールを昇華させることで乾燥させる。容器の大きさは試料室内径以内。試料室底の金属板に接するように容器を置く必要があるため、直径4 cmのバイアル瓶を2本並べておくことは可能だが、直径8 cmのシャーレを2個重ねておくことは不可能。